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<一种较常用的陶瓷辊棒涂层制备方法>
  

    陶瓷辊棒涂层按照功能不同分为防腐涂层,耐磨涂层和其他特殊功能涂层。其中防腐涂层又可分为:电镀层、氧化层、化学转化涂层、热浸镀层、热喷涂层、涂料、塑料涂层和扩散涂层;耐磨涂层又可分为:堆焊层、固体润滑涂层和激光表面处理涂层;特殊功能涂层可分为:金属陶瓷辊棒热障涂层、导电涂层、隐身涂层、电磁屏蔽涂层、抗海洋生物涂层、装饰性氧化一着色涂层、防粘减摩涂层、人造骨生物相容性涂层、热烫印层、亲水和介电涂层、铸渗涂层、电火花强化涂层、瓷釉层和热障涂层。
    陶瓷辊棒涂层的制备方法包括:热喷涂、高温自蔓延法、电火花表面强化法、固相沉积、化学气相沉积、物理气相沉积、真空离子沉积、液电相法、溶胶法、电化学沉积法、化学自催化沉积法(化学镀)和传统的涂刷、淋蘸等。涂层成分比较容易调整。可以通过调整涂层材料的种类、配比及涂敷工艺等,来调节涂层成分以及它的性能。
    工业生产中有一种较常用的陶瓷辊棒涂层制备方法是磁控溅射一PVD镀膜。随着PVD技术的发展,磁控溅射由于其沉积速率高、基片温升低等特点,已被广泛的应用。从最初的“常规磁控溅射”、“平衡磁控溅射”已经发展到“非平衡磁控溅射”技术、“闭合场非平衡磁控溅射”以及“脉冲磁控溅射”技术等。目前,应用比较广泛的还是非平衡磁控溅射技术。人们在非平衡磁控溅射的基础上还研究出了闭合场非平衡磁控溅射技术。该技术是在非平衡磁控溅射的基础上,采用多个阴极靶共同组成一个可以捕捉电子的“闭合阱”,可以进一步增大等离子体区域,加大等离子体对薄膜的轰击能量:并且由于系统内磁场的改进其膜层沉积也更加均匀,同时也解决了随靶基距的增加,等离子浓度迅速降低而导致的薄膜不均匀、质量差的缺点。此外,多个靶材同时工作也大大增加了整个系统的溅射率,有利于提高效率,实现对大型、复杂工件的镀膜。www.htmaterial.com

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